Уникальная сыворотка 3 в 1: маскирует недостатки, защищает и ухаживает за кожей после агрессивных процедур и при гиперчувствительной коже, а также обеспечивает оптимальную защиту от излучений.
В составе матирующей сыворотки комплекс компонентов уменьшающих покраснения, раздражения и ощущения дискомфорта. Подходит для ежедневного применения как дополнение терапевтического домашнего ухода PRS7. Препарат нежно ложится, не оставляет ощущения жирности на лице и не течет.

Использование: Нанесите несколько капель сыворотки на кончики пальцев, кисть для макияжа или спонж, затем мягко и равномерно распределите её по лицу и шее.

Ingredients: Water/ Aqua, Octocrylene, Homosalate, Butylene Glycol, Dimethicone, Ethylhexyl Salicylate, Butyl Methoxydibenzoylmethane, Caprylic/Capric Triglyceride, Dibutyl Adipate, Cetyl Alcohol, PEG-40 Stearate, Titanium Dioxide, Silica, CI 77891, Polymethyl Methacrylate, Triethanolamine, Maltodextrin, Phenoxyethanol, Sorbitan Tristearate, CI 77492, Propylene Glycol, Potassium Cetyl Phosphate, Xanthan Gum, Cellulose Acetate, Allantoin, Chlorphenesin, Fragrance/Parfum, CI 77491, Acrylates/Ammonium Methacrylate Copolymer, Panthenol, Sodium Heparin, Propylene Glycol Stearate, Bisabolol, Ethylhexylglycerin, Ubiquinone, Behenyl Alcohol, Glycerin, Chlorhexidine Digluconate, Polyglyceryl-10 Pentastearate, Magnesium Stearate, Aloe Barbadensis Leaf Powder, BHT, Disodium EDTA, Guaiazulene, CI 77499, Sodium Stearoyl Lactylate, Arnica Montana Flower Extract, Cupressus Sempervirens Seed Extract, Hordeum Vulgare Root Extract, Polygonatum Officinale Rhizome/Root Extract, Tetramethyl Acetyloctahydronaphthalenes, Centella Asiatica Leaf Extract.